特征

• 测量质量数范围 1 至 200 amu
• 反应过程中可长期稳定测量
• 通讯接口，以太网
• 采用带磁场的 Claude 离子源
  软电离可减少气体离解，并防止由于高灵敏度电离室中的热反应引起的分解和吸附。
• 紧凑型流路控制阀
  缩短了处理室到离子源的距离，可实现快速响应和拆卸。
• 10 ^-6 至 13kPa 在很宽的压力范围内进行测量（取决于孔板选择）
• 无需PC即可测量
• 一键式功能（任何人都可以轻松操作，无需复杂操作）
• 连接传感器单元后，可进行高达 120°C 的高温烘烤。
• 配备离子源和二次电子倍增管预防性维护分析仪追溯功能（砖利申请中）
• 可进行氦气泄漏测试、空气泄漏测试、堆积测试
• 软件作为标准安装（与 Windows 7/8/10 兼容）

采用

蚀刻/CVD设备

• 监测过程中的反应气体
• 用于蚀刻和清洁过程的端点监视器
• 残余气体测量
• 泄漏测试