Al、Cu、高熔点金属 是单晶圆多室兼容平台,在金属布线工艺上有很多成就。通过将 SIS(自离子溅射)-PVD、金属 CVD/ALD 和用于下一代工艺的 DRY 预处理模块相结合,实现了*佳的性价比。
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