多用途平均照射装置Lamphouse（Multi-light）
特征
获得好评的USHIO超高压UV灯
配备USHIO的超高压UV灯，此灯即使紫外线波长范围中，仍可有效活用三条光线(365nm、405nm、436nm)是具有长效稳定之照射强度的高亮点光源。
减轻对工作片热影响的冷镜(Cold Mirror)
使用两片穿透波长光，仅反射必要紫外线的冷镜(Cold Mirror)，因此可以抑制被照射物的温度上升。
配备高性能智能镜片
配备高性能FLYEYE镜头，不降低光利用效率，可平均照射到照射面。
依据目的选择之系统结构
除了基本构造组合＋附属光学装置＋快门控制装置的基本型态之外，加上具有达到照射强度、波长、及照射口径等光学条件的各种搭配组合,限宽广的组合。
可选择的波长范围
可依需求选择II型(365nm)、及IG型(365・405・436nm3种光线)2种光学系统。
可依需求实施光学设计与制作
有（250～25kW灯屋）（以高照度化、高平行度化、及波长选择等提升光学性能」「省空间化等与依据规划的光学系统）以DeeP UV灯等超高压UV灯以外为光源的灯屋等，可配合顾客需求。
波长实例
大型Lamp House光学系统实例
250、500W系列
10、16、25kW系列
主要用途
作为使用镜头之均匀照射光源，或使作为使用光纤之点光源，回路图案烧附、晶圆**曝光、及UV接着固化等，可应用于各种用途。 半导体/半导体烧付、半导体光罩检查、晶圆周围曝光、晶圆**曝光、晶圆瑕疵检查、及液晶TFT/CF烧付等。
精密机器/CD光撷取用镜头接着、磁头接着、光纤涂装、电子零件接着、水晶振荡曝光、TAB曝光、及FPC曝光大面积投影曝光装置等。 其他/液晶校正器、MEMS曝光、各种光学实验等。
测试机的提案
有使用产品的实验与测试机可供使用。测试后可以直接购买。 ※部分使用目的与用途等无法配合需求，敬请见谅。
蓉公网安备 51012402000290号
