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成都西野：ULVAC爱发科多室溅射设备

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产品名称: 成都西野：ULVAC爱发科多室溅射设备
产品型号: MLX TM -3000N
产品展商: ULVAC爱发科
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简单介绍

成都西野供应：ULVAC爱发科多室溅射设备MLX TM -3000N


成都西野：ULVAC爱发科多室溅射设备  的详细介绍
溅射装置负载锁定型

多室
溅射设备MLX TM -3000N

多室溅射设备 MLX TM -3000N 是一种用于半导体的薄膜沉积设备，可灵活响应各种工艺需求并实现高性价比。晶圆尺寸从 75 毫米到 200 毫米不等。

特征

  • 支持*大 200 mm 的电路板尺寸
  • 通过消除污染和高精度温度控制来控制薄膜质量
  • 灵活的工艺支持，如Al嵌入、厚膜、层压等。

采用

  • 以半导体布线为中心的金属化

规格

模型 MLX TM -3000N
设备配置 运输系统 六角形真空转移室 x 1 间
模块 L / UL 室 x 2（或 L / UL 室 x 1 + 脱气室 x 1）+ *多 4 个工艺室
板尺寸 兼容Φ75mm~200mm
搬运机器人 双拾取真空搬运机器人
控制系统 电脑控制
采用 功率器件（正面和背面）、UBM、安装器件、异形板
排气系统 主排气 LL 室：干泵
输送室：涡轮分子泵
工艺室：低温泵
粗拉 干泵
可安装的工艺气体系统 多达 3 个系统
达到压力 输送室：1.3 E-4Pa
工艺室：1.0 E -5Pa
电 50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V
冷却水 0.2-0.3MPa，温度20-25ºC，100L/min
所需气体 各种工艺气体：0.05-0.1MPa
N2气：0.05-0.1MPa
压缩的空气 0.55～0.75MPa
接地工作 A类接地
选项 Φ75mm～200mm晶圆可更换
快门机制
静电吸盘式基板加热机构
RGA：奎利
增加LL室涡轮分子泵
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