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成都西野供应：ULVAC爱发科溅射设备

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产品名称: 成都西野供应：ULVAC爱发科溅射设备
产品型号: RFS-201
产品展商: ULVAC爱发科
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简单介绍

配有RF电源的小型高频溅射设备。 可以实现金属，半导体，绝缘体成膜，因此非常适用于基础研究开发等实验用途。


成都西野供应：ULVAC爱发科溅射设备  的详细介绍

溅射设备

溅射设备

RFS-201

ULVAC

配有RF电源的小型高频溅射设备。 
可以实现金属，半导体，绝缘体成膜，因此非常适用于基础研究开发等实验用途。

特点

  • 绝缘，金属，半导体材料的溅射设备。
  • 主泵使用油扩散泵。
  • 可以在Φ80mm×1阴极上单层成膜。
  • 通过传统溅射，溅射速度可达到20nm/min（SiO2）

规格

型式 RFS-201
真空性能 极限压力 6.6×10-４Pa
排气时间 6.6×10-３Pa/5min
真空槽 真空槽 金属腔 （200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
阴极 Φ80mm、1元
基板推荐尺寸 Φ80mm×t1-5mm
有効成膜范围 50mm
成膜速度 SiO2 SiO2, 成膜20nm/min以上
膜厚分布 SiO2 SiO2, 成膜50mm范围±8％以内
基板加热温度 Max 350℃
基板／电极间距 30～50mm(可変）
排气系统 主泵 油扩散泵（水冷） 150L/sec
液体氮气捕集器 选项
補助泵 油回转泵 100L/min
油雾捕集器 油雾捕集器 OMT-100A
操作系统 主阀 插板阀
補助阀 三通阀
自动泄露阀 选项
操作 手动
控制系统 RF电源 Max 300W (0～300Ｗ可変）
皮拉尼真空计 G-TRAN
电离真空计 选项
设置 *大尺寸 764mm（W）×723mm（D）×1648mm（H）
质量 260kg

效用

型式 RFS-201
所要电气量 200V 单相 50/60Hz 2.8kVA
接地端子 A种 （接地抵抗値 10Ω以下）
所要水量 5.0 L／min　(水温:25℃以下、水圧:200～300kPa（表压）)
组合连接 （电源） 橡胶绝缘软电缆（带R2-5压接端子）　4m
组合连接 （接地） 接地电缆（铜板）　4m
组合连接（水） 涤纶软管（内径9mm×外径15mm）、4m（2本）

尺寸图

zu_rfs201.gif

真空槽内部构成

基本构成

zu_rfs201_fc.gif

[1] 罩子
[2] 阴极
[3] 阳极
[4] 快门
[5] 电流导入端子
[6] 热电偶导入端子
[7] 真空计端口
[8] 支架
[9] 背板
[10] 靶材
[11] 准备端口
[12] 正门

支架图

[標準]

zu_rsf200_holdere.gif

※我们将根据您的研发目的进行定制。

可选配件

●液体氮气捕集器 ●电离真空计
●磁控电极 ●内置捕集器（OMI-100）
●涡轮分子泵 ●DC电源
●导入气体2系统，3系统 ●油回转泵自动泄露阀

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