热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩热稀释系统KHG-2010日本TOKYO DYLEC东京乐彩-150℃耐熱仕様の希釈装置。*大粒子径20μmまで対応-
高温(150℃以下)ガス中のエアロゾルの希釈に用いられ、水や揮発成分の凝縮を抑えます。
粒子径分布を変化させず安定に希釈します(20μmまで)。希釈倍率は10倍(2台連結すると100倍になります)。
希釈原理はVDI Guideline 3491 Part15 に対応しています。
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