配备超高压UV灯与EXCIMER灯,应用在提升乾蚀刻时的耐电浆性、离子注入时的阻剂脱气与烧制、电荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各种用途。
・高照度、均一度照射 初期照度是650mw/cm2以上(220~320nm)、且照度均匀度保证在±10%。 ・采用依据SEMI规定之装载接口的EFEM(φ12寸装置) φ12寸用装置、采用装载接口(依据SEMI) 的EFEM、 以及搬运系统 采用无尘快速的2Finger搬运机器人、以达到高Throughput。 ・采用WindowsNT PC的高操作性与以GEM300为准(φ12寸装置) φ12寸用装置采用Windows NT PC,达到极 佳的操作性。亦符合GEM300规定。 ・灯管装置更换容易 灯管更换时无须调整,并降低装置的停机时间。 ・配备照度一定方式与积累计算曝光方式(φ12寸装置:选购配备) 使用照度一定方式、并积累计算曝光方式、达到制程的稳定化与一致化。 ・丰富的产品系列 对应φ6寸用装置(可与φ5寸以下共用)、φ8寸用装置( 可与φ6寸以下共用)、 以及φ12寸专用装置等所有工具匣。此外,亦备有准分子(Excimer)灯的φ8寸用装置。
2Finger搬运机器人
灯光装置
・提高乾蚀时的耐电浆性 ・离子注入时的阻剂脱气及烧入 ・电荷消除与消除疲乏 ・Low-k Cure ・薄膜磁头之层间绝缘膜形成 ・化合物半导体的Lift-Off工程 ・表面改质 ・CCD与CMOS影像仪的去色(bleaching)等
蓉公网安备 51012402000290号